美論壇驚訝,中國怎敢擅自研發光刻機?國產光刻機官宣,打誰的臉

由 劉白惜 發佈於 歷史

'25-11-04

說起中國國產光刻機這事兒,得從中美貿易戰那時候說起。2018年貿易摩擦剛開始,美國就開始在科技領域下手,先是針對華爲,2019年5月把華爲扔進實體清單,切斷了先進芯片供應。這一下子就把中國半導體產業逼到牆角,大家都清楚,芯片是現代科技的核心,沒它手機電腦啥都玩不轉。更別提光刻機了,這玩意兒是製造芯片的母機,相當於把電路圖案印到硅片上。沒有自主的光刻機,芯片產業就得一直看別人臉色。

美國這招挺狠,2020年又升級禁令,不光自己不賣,還管着第三方用美國技術供貨給中國企業。結果中國芯片供應鏈差點兒斷檔,好多企業只能用庫存湊合。面對這壓力,中國沒坐以待斃,政府和企業趕緊加大投入。上海微電子裝備集團成了主力軍,這家公司從2002年就搞光刻設備,早年掌握了90納米級,但高端的還得靠進口ASML的荷蘭貨。

2021年,上海微電子就放話,說要在年底前推出適用於28納米制程的浸沒式深紫外光刻機。這不是空談,國家重大專項給了大筆資金,團隊拉來幾百人,專攻光源系統。深紫外光源用氟化氬激光器,以前全靠進口,中國工程師從零起步,跟清華大學和中科院聯手,弄出國產原型。剛開始測試,激光功率晃盪不定,波長誤差超標。他們反覆調材料配方,加了高純氣體循環,到2022年中才穩住輸出。

鏡頭部分也棘手,光刻機要高數值孔徑鏡頭提升分辨率,以前依賴德國蔡司。中國團隊轉用國產光學玻璃,和江蘇廠家合作,多層鍍膜鏡片。2022年下半年實驗室測試,套刻精度先是10納米,離目標8納米差遠了。調整算法,控振動,到2023年初原型組裝好,在上海基地跑驗證。真空腔密封出問題,污染硅片,他們換國產材料,優化清潔,跑了100多小時沒毛病。

2023年7月,有消息說上海微電子推進28納米浸沒式,年底交樣機。供應鏈國產化到60%,精密電機本地買。測試時浸沒液流動偏,圖案不勻,用流體力學軟件改噴嘴,到年底分辨率控在65納米內。同期美國10月升級管制,限維修配件,這更催中國快跑。

2024年進入關鍵期,上海微電子跟中芯國際合作,模擬產線測設備。起初28納米良率70%,低了。分析出光掩膜對準誤差大,升級軟件加機器學習,到年中良率85%。9月,工業和信息化部發指導目錄,列入分辨率65納米內、套刻精度8納米的氟化氪和氟化氬光刻機。這算官宣國產28納米光刻機,從實驗室到應用邁一步。

消息一出,美國論壇炸鍋。Reddit的LessCredibleDefence版塊發帖“中國首臺28納米光刻機今年交付”,用戶直呼不信,有人貼數據說中國落後ASML十年。另一帖問“沒美國許可,中國咋推進”,幾百回覆辯來源,懷疑逆向工程,但多數認中國超預期。Sino Defence Forum也熱議,SMEE的28納米在SMIC測試,45-55納米去美化。Quora上有人問中國揭曉自家光刻機,美國咋擋,會不會打仗。回覆說美國擋不住,28納米機明年量產。更有人說這讓美國遏制失效,早於預期五年。

硬件區論壇HardwareZone也轉帖,中國聲稱儘管美國收緊,芯片裝備進步,SMEE開發出28納米機,2023年張江集團宣稱。Effective Altruism Forum討論中美半導體競爭,中國當前SSA600系列做90、110、280納米,對臺灣韓國不算先進,但對本土是躍進。Delhi Science Forum提美國升級芯片戰,SMEE2022釋28納米DUV,能做14納米,SMIC證明能7納米多圖案。

這些反應挺有意思,美國網友從懷疑到承認,透出技術壟斷被戳的感覺。光刻機市場ASML佔大頭,美國管出口維持優勢。中國這一步,等於說封鎖不靈了。

光刻機這東西,簡單說就是用紫外光把電路圖案投到硅片上,精細度決定芯片水平。28納米制程夠手機處理器和汽車電子用。中國搞自主,因爲需求大,2023年芯片進口超3000億美元,本土高端產能缺。團隊攻浸沒技術,用液體介質提分辨率,融國產電機軟件。美國論壇驚訝,辯這挑戰主導,用戶比數據疑產量穩。但中國憑實力推,2024官宣證自主存在。

官宣後,各國反應不同。印度外交表態想學經驗,2025年談合作。韓國三星2025年初訪華,聊聯合項目拓亞洲市場。美國先疑,論壇帖幾千,堅持不可能破封。到2025年1月,智庫報承認進展,建議調對華政策。中國項目繼續,2025年7月長江存儲試國產線。全球半導體格局變,美國英特爾壓大,中國自主空間多。長遠推科技升,減外部限。

2025年進展更快,5月上海微電子交付首臺28納米浸沒式,歷史突破。9月第二十五屆工博會開幕,上海國家會展中心展國產光刻機,爆發元年。10月證券時報報,28納米浸沒式DUV進驗證,EUV預研。哈工大2025年官宣13.5納米EUV光源,中科院上海光機所全固態深紫外系統。報道說中國自產EUV2025第三季度試產,用激光誘導放電等離子體,顛ASML激光產生等離子體,指標突破。

這些步步推進,讓美國論壇繼續熱議。Reddit帖更新,中國光刻機首測曝光,陸股狂飆暗示危機,臺積電王座穩嗎?用戶說美國製裁效減弱,中國進展讓美國早五年面對挑戰,ASML停對中國維修。Sino Defence Forum跟進,SMEE28納米高度國產化,85%自主,剩10-15%高端件如光學晶體、真空系統、精密傳感器部分進口。

想想看,光刻機全球市場2024年半導體設備1090億美元,光刻佔24%,最大細分。中國光刻膠突圍,日本企業早介入晶圓廠,聯合研適配膠,後生產匹配光刻機條件。中國從跟跑到並跑,投資前景好,報告說2025-2032中國光刻機行業趨升。

這事兒打臉誰?明顯是那些覺得中國離不開進口的。論壇驚訝正因壟斷慣了,中國敢研,就證明實力夠硬。後續看,2026上海微電子推28納米DUV,蓋國內70%成熟製程需,改市場競爭。全球半導體先進封裝光刻機2025銷286百萬美元,2031達385,增長6.1%。

總的,中國這一路,從貿易戰捱打,到自主突破,靠實打實投入。工程師解決光源穩、鏡頭精、密封潔,一點不誇張。論壇反應從不信到認賬,透出格局變。長遠,中國減依賴,科技自立更穩。

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